超高纯铜溅射靶材的研究现状及发展趋势

作者

  • 张晓丹 紫金矿业集团股份有限公司 作者
  • 史云胜 作者

关键词:

超高纯铜溅射靶材, 研究现状, 发展趋势, 制备工艺, 市场需求

摘要

超高纯铜溅射靶材作为核心功能材料,在半导体、平板显示、太阳能光伏等领域应用广泛。文章系统综述了超高纯铜溅射靶材的国内外研究现状,分析了市场竞争格局、国内产业进展、应用领域拓展及技术研发进展。在此基础上,从市场需求、纯度提升、工艺创新、产业整合等维度探讨了其未来发展趋势,并提出了推动国产化进程与产业升级的建设性建议。当前超高纯铜溅射靶材国产替代提速向好,产业后续成长空间广阔。

已出版

2026-08-24

期次

栏目

实用技术

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