冷喷涂在溅射靶材制备中的应用

摘要

溅射靶材是磁控溅射制备薄膜材料的关键原料，其质量显著影响溅射薄膜的性能。常规粉末冶金法制备溅射靶材，其纯度和致密度难以保障；熔炼铸造法制备的溅射靶材，其晶粒较为粗大，且难以制备多组分且熔点差异较大的合金材料。冷喷涂成形靶材致密度高、氧含量低、成分均匀稳定，溅射过程中不会有异常放电，显著提高了靶材寿命。文章主要阐述了溅射靶材的定义、分类以及主要制备方法，综述了冷喷涂技术的原理特点以及在溅射靶材领域的应用现状，最后探讨了冷喷涂技术在溅射靶材制备研究中存在的技术问题和发展趋势。